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この生成物は、3-アザスピロ[5.5]ウンデカ-7-エン-3-カルボン酸、9-オキソ-、フェニルメチルエステルであり、ピペリジン縮合シクロヘキセノン骨格とピペリジン窒素上のベンジルカルバメート（Cbz）保護基を組み合わせたスピロ環状ビルディングブロックです。スピロ[5.5]ウンデカ-7-エン コアは、マイケル受容体エノンと保護された第二級アミンを備えた剛直な三次元構造を提供します。この配置により、エノンは求核攻撃、付加環化、または還元を受けることができ、Cbz 基をきれいに除去して遊離アミンを出現させることができる、複雑なアルカロイド様足場を構築するための多用途の中間体になります。

5'-O-DMTr-5-ヨード-2'-dU-3'-CED ホスホラミダイト (C3₃₉H46IN4O₈P、分子量 856.68 g/mol) はプリンヌクレオシド類似体であり、オリゴヌクレオチド合成用の修飾デオキシウリジン ホスホラミダイト ビルディング ブロックです。構造的に、5'-O-DMTr-5-ヨード-2'-dU-3'-CED ホスホルアミダイトは、ウラシル塩基に 5-ヨード置換を持つ 2'-デオキシウリジン コア、5'-O-ジメトキシトリチル (DMTr) 保護基、および自動 DNA 合成用の 3'-[(2-シアノエチル)-(N,N-ジイソプロピル)]-ホスホルアミダイト部分。

生成物は 1,1'-ビフェニル、3-ブロモ-2-メチル-、臭素原子が 1 つの芳香環の 3 位に位置し、メチル基が 2 位を占める直交官能化ビフェニルです。臭素は、パラジウム触媒によるクロスカップリング (鈴木、ブッフヴァルト、根岸) またはリチウム - ハロゲン交換のための多用途のハンドルであり、メチル基は立体的なバルクを提供し、環の電子密度を調節します。 1 位の非置換フェニル環はビフェニル骨格を完成させ、官能基の配置を正確に制御して非対称の高度に置換されたビアリールに加工できる足場を作成します。

1,7-ビス(tert-ブトキシカルボニルメチル)-1,4,7,10-テトラアザシクロドデカンは、サイクレン (1,4,7,10-テトラアザシクロドデカン) の対称的に二官能化された誘導体であり、1 位と 7 位の 2 つの反対側の環窒素原子がそれぞれ酢酸 tert-ブチル アームを持っています。大環状コアは、エチレン架橋によって分離された 4 つの第二級アミン窒素を含む 12 員環で構成されています。これらの窒素のうち 2 つは遊離の第二級アミンとして残りますが、他の 2 つは tert-ブトキシカルボニルメチル (CH2CO2tBu) 基で N-アルキル化され、トランス-1,7-二置換パターンを形成します。 tert-ブチルエステルは保護されたカルボン酸前駆体として機能し、酸性条件下で切断して対応する酢酸官能基を発現させることができます。この配置により、さらなる選択的 N 官能基化に利用できる 2 つの第二級アミン部位が残り、この分子は非対称置換されたサイクレンベースのキレーターおよびコンジュゲートを構築するための位置選択的に保護された中間体となります。

Ac-dC ホスホルアミダイト (C41H50N5O8P、分子量 771.84 g/mol) は、オリゴヌクレオチド合成用の修飾デオキシシチジン ホスホルアミダイト ビルディング ブロックであり、正式には次のように知られています。 5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-N⁴-アセチル-2'-デオキシシチジン 3'-[(2-シアノエチル)-(N,N-ジイソプロピル)]-ホスホルアミダイト。構造的には、Ac-dC ホスホラミダイトは、シトシン塩基に N⁴-アセチル保護基を持つ 2’-デオキシシチジン コア、5’-O-ジメトキシトリチル (DMTr) 保護基、および 3’-(2-シアノエチル)-(N,N-ジイソプロピル) ホスホルアミダイトで構成されます。部分。 N⁴-アセチル基は酸に不安定な保護戦略であり、従来のベンゾイル (Bz) 保護と比較して穏やかな条件下でより迅速な脱保護を可能にします。 Ac-dC ホスホロアミダイトは、迅速な脱保護と敏感な修飾への適合性が重要な UltraMild オリゴヌクレオチド合成用に特別に設計されています。

2'-OMe-Bz-C ホスホラミダイト (C47H54N5O₉P、分子量 863.93 g/mol) は、RNA オリゴヌクレオチド合成用の修飾リボシチジン ホスホラミダイト ビルディング ブロックであり、正式にはN⁴-ベンゾイル-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-2'-O-メチルシチジン 3'-[(2-シアノエチル)-(N,N-ジイソプロピル)]-ホスホロアミダイト。構造的に、2'-OMe-Bz-C ホスホラミダイトは、2'-O-メチル基 (ヌクレアーゼ耐性と RNA 二重鎖の安定性の向上) を備えたリボシチジン コア、シトシン塩基上の N⁴-ベンゾイル保護基、5'-O-DMTr 保護基、および3'-ホスホルアミダイト部分。 2'-O-メチル修飾は、免疫原性を低下させながら代謝安定性と結合親和性を高めるため、治療用オリゴヌクレオチドで最も広く使用されている RNA バックボーン修飾の 1 つです。 2'-OMe-Bz-C ホスホラミダイトは、アンチセンス療法、siRNA、および RNA ベースの診断で使用される 2'-O-メチル RNA オリゴヌクレオチドの合成のための重要な構成要素です。